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       光譜儀的測(cè)量和控制組合在一個(gè)裝置內(nèi)，簡(jiǎn)稱MC。測(cè)量和控制單元是光電直讀光譜儀的一個(gè)重要部件。在樣品分析之前，由操作程序編制合金分析文件，并選好分析參數(shù)。

       樣品分析過(guò)程中，由MC裝置控制整個(gè)測(cè)量過(guò)程的動(dòng)作、順序和時(shí)間。由上位計(jì)算機(jī)和MC裝置之間進(jìn)行數(shù)據(jù)交換和處理，并在屏幕上顯示出本次的分析結(jié)果。因此，我們稱MC裝置是光譜儀和上位計(jì)算機(jī)之間連接的橋梁。本章重點(diǎn)介紹光譜儀光電流轉(zhuǎn)換的測(cè)量以及數(shù)字化處理技術(shù)。MC裝置在火花直讀光譜儀中完成的主要功能如下:

直讀光譜儀的MC裝置含義

       (1)控制火花光源激發(fā)樣品，并產(chǎn)生各個(gè)元素的特征譜線。(當(dāng)采用雙樣品架)可選擇樣品架和光源的操作參數(shù)。光源操作參數(shù)有3個(gè): .

       1)氬氣沖洗(沖洗時(shí)間由操作參數(shù)設(shè)置)。清洗樣品表面并在燃燒腔內(nèi)形成控制氣氛。

       2)預(yù)燃(預(yù)燃時(shí)間由操作參數(shù)設(shè)置)。此階段產(chǎn)生大電流易于樣品表面蒸發(fā)，以減少材質(zhì)差異，提高- - 致性，并將難激發(fā)的樣品進(jìn)行預(yù)處理。

       3)曝光階段(曝光時(shí)間由操作參數(shù)設(shè)置)?；鸹ü庠从梅€(wěn)定的小電流將蒸發(fā)出來(lái)的元素原子激發(fā)，使其產(chǎn)生特征光譜，這一階段也稱測(cè)量階段。MC內(nèi)單板計(jì)算機(jī)對(duì)PMT的光電流采集和數(shù)字化處理，并傳送到上位計(jì)算機(jī)。

       (2)在樣品激發(fā)前和激發(fā)時(shí)控制光譜儀操作順序。

       (3)模/數(shù)轉(zhuǎn)換，輸送已數(shù)字化的信號(hào)到上位計(jì)算機(jī)。

       (4)對(duì)PMT(光電倍增管)提供可調(diào)整的高壓供電，PMT輸出光電流的測(cè)量、存儲(chǔ)和數(shù)字化處理。MC裝置輸入220VAC或選用110VAC。